




蒸發(fā)鍍膜
一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。厚度均勻性主要取決于:
1、基片材料與靶材的晶格匹配程度
2、基片表面溫度
3、蒸發(fā)功率,速率
4. 真空度
5. 鍍膜時(shí)間,厚度大小
組分均勻性:蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調(diào)控的因素同上,但是由于原理所限,對于非單一組分鍍膜,蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。
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真空抽不上去的原因
1、漏率偏高就是我們通常所說的漏氣;.
2、真空機(jī)組的抽氣能力不夠了,油被污染或氧化了:
3、真空室內(nèi)太臟放氣;
4、真空室內(nèi)有漏水;
5、真空管道有漏氣;.
6、或者是以上幾種可能都有。
出現(xiàn)問題首先是要判斷,是不是拆卸過東西,是不是漏水?閥門打開了嗎?根據(jù)現(xiàn)象判斷原因,然后再去根據(jù)判斷找問題,可能會(huì)收到事半功倍的效果。
養(yǎng)成良好的衛(wèi)生習(xí)慣
相比以前我們廠的設(shè)備是灰塵滿面、油漬不堪。也許很多人都認(rèn)為,設(shè)備只要正常運(yùn)轉(zhuǎn)就可以了,搞得再干凈也是做表面工作。我可是這樣認(rèn)為的,一個(gè)人連表面工作都作不來,那真的還有內(nèi)在、實(shí)在的工作嗎?從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜式或間接鍍膜剪貼式。當(dāng)然設(shè)備和設(shè)備周圍的灰塵、油污對設(shè)備的本身的影響也是相當(dāng)之大的?;覊m能產(chǎn)生靜電,損壞電子元件;油污能使電線、水管硬化開裂,造成一些意想不到的問題出現(xiàn)。特別我們使
用的真空設(shè)備,還有它本身的特殊性。真空設(shè)備講究的是-一個(gè)真空清潔度,真空清潔度越差,放氣性就越大。這樣使設(shè)備抽到較高的真空度所需的時(shí)間就越長。
或者根本就無法抽到。這樣一來就減少我們的產(chǎn)量,二來影響到了我們的產(chǎn)品的質(zhì)量。
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真空鍍膜設(shè)備真空泵的選擇
真空泵工作時(shí)產(chǎn)生的振動(dòng)對工藝過程及環(huán)境有無影響。若工藝過程不允許,應(yīng)選擇無振動(dòng)的泵或者采取防振動(dòng)措施。
了解被抽氣體成分,氣體中含不含可凝蒸氣,有無顆粒灰塵,有無腐蝕性等。選擇真空泵時(shí),需要知道氣體成分,針對被抽氣體選擇相應(yīng)的泵。如果氣體中含有蒸氣、顆粒、及腐蝕性氣體,應(yīng)該考慮在泵的進(jìn)氣口管路上安裝輔助設(shè)備,如冷凝器、除塵器等。
真空泵在其工作壓強(qiáng)下,應(yīng)能排走真空設(shè)備工藝過程中產(chǎn)生的全部氣體量。
真空設(shè)備對油污染的要求。若設(shè)備嚴(yán)格要求無油時(shí),應(yīng)該選各種無油泵,如:水環(huán)泵、分子篩吸附泵、濺射離子泵、低溫泵等。如果要求不嚴(yán)格,可以選擇有油泵,加上一些防油污染措施,如加冷阱、障板、擋油阱等,也能達(dá)到清潔真空要求。
真空鍍膜機(jī)原理
真空鍍膜機(jī)是目前制作真空條件應(yīng)用為廣泛的真空設(shè)備,一般用真空室、真空機(jī)組、電氣控制柜三大部分組成,排氣系統(tǒng)采用“擴(kuò)散泵+機(jī)械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。本公司專業(yè)從事真空鍍膜設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)擁有經(jīng)驗(yàn)豐富的技術(shù)團(tuán)隊(duì)及的售后服務(wù)隊(duì)伍為您解決設(shè)備在使用過程中遇到的任何問題。對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來,并且終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,終形成薄膜。
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